氩离子抛光技术又称离子研磨CP截面抛光技术，是利用氩离子束对样品进行抛光，可以获得表面平滑的样品，而不会对样品造成机械损害。去除损伤层，从而得到高质量样品，用于在SEM，光镜或者扫描探针显微镜上进行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。同时，离子研磨CP截面抛光仪制样广泛，可用于于各种材料样品（除了液态）的制备，适应大多数材料类型，对大面积、表面或辐照及能量敏感样品尤佳，有钢铁、地质、油页岩、 锂离子电池、光伏材料、陶瓷、金属(氧化物,合金)、 高分子，聚合物、薄膜、半导体、EBSD样品、生物材料等包括平面抛光与截面抛光。
金鉴实验室2台氩离子切割抛光设备，都配备温控液氮冷却台。
金鉴实验室氩离子抛光/CP截面抛光应用示例
线路板盲孔平面抛光
正极材料颗粒截面孔隙观察
柔性显示屏孔洞缺陷观察
线路板通孔裂缝观察
穿戴式显示屏孔洞缺陷分析
LED芯片结构分析
键合球与芯片电极结合效果观察
锂电池石墨负极片截面抛光
芯片电极截面抛光
LED金属支架镀层截面抛光
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