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摘要 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。  建模任务 概观 光线追迹仿真 •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。•点击Go！•获得3D光线追迹结果。

 光线追迹仿真 •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。•单击Go！•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。  场追迹仿真 •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。•单击Go！  场追迹结果（摄像机探测器）
 •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。


 场追迹结果（电磁场探测器） •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。

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 更多阅览
- Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination