这些小活动你都参加了吗?快来围观一下吧!>>
电子产品世界 » 论坛首页 » 综合技术 » 通讯及无线技术 » 半导体芯片清洗加强方法

共15条 1/2 1 2 跳转至

半导体芯片清洗加强方法

助工
2020-04-25 15:04:49     打赏

增加清洗强度的方法有如下四种:

一、加热。假设室温20℃的情况下,用加热器将清洗溶液的温度加热到80℃,这样酸碱在高温下能加快反应,得到更好的清洗效果。加热的方法有两种,一种是直接用电阻丝加热清洗溶液,这种方法的缺点在于加热溶液过程中,热量的传输不是很均匀,容易形成温度梯度,同时直接加热也容易产生多余的污染物。另一种方法是采用间接加热,利用泵把加热后的溶液重新送回清洗槽,这种清洗方法能够解决清洗槽内温度不均的问题,同时,也没有直接加热过程中产生污染物的问题,也是我们经常采用的一种方法。

二、超声波。使用超声波产生气泡,同样能够达到吸取硅片表面杂质的目的。这种情况是在温度要求不能太高的情况下使用的。如果高温与超声波同时作用,清洗效果最佳。

三、抛动。为了让杂质不会粘贴在硅片表面上,采用一种晃动的方式,让装有硅片的篮子在清洗溶液中充分接触溶液,增加摩擦,有效去污。

四、臭氧。利用臭氧的强氧化作用,产生泡沫。从而达到吸取硅片表面的污物的目的。

这四种方法总的来说,都是增加反应产生的泡沫。从而达到吸去硅片表面杂质的目的。此四种方法可以组合使用, 这样清洗的效果会更好。当然要在平衡功能与价格后确定。



工程师
2020-04-25 21:46:02     打赏
2楼

不错的方法


工程师
2020-04-26 14:14:09     打赏
3楼

可以的


助工
2020-04-29 09:57:59     打赏
4楼

鼓掌


助工
2020-04-29 09:58:41     打赏
5楼

订制酸碱洗设备请联系:苏州晶淼半导体设备有限公司   联系电话:18936102713张静文


助工
2020-05-05 15:50:41     打赏
6楼

不错的分享


菜鸟
2022-02-18 14:04:14     打赏
7楼

****加温后配合超声波应该是比较理想的清洗方式


高工
2022-06-17 23:11:26     打赏
8楼

谢谢分享


专家
2022-06-17 23:31:47     打赏
9楼

谢谢分享


专家
2022-06-18 07:17:31     打赏
10楼

谢谢分享


共15条 1/2 1 2 跳转至

回复

匿名不能发帖!请先 [ 登陆 注册 ]