解答:
1.芯片制作完整过程包括 芯片设计、晶片制作、封装制作、成本测试
等几个环节,其中晶片片制作过程尤为的复杂。下面图示让我们共同来了解 一下芯片制作的过程,尤其是晶片制作部分。
首先是芯片设计,根据设计的需求,生成的“图样”
1, 芯片的原料晶圆
晶圆的成分是硅,
硅是由石英沙所精练出来的,晶圆便是硅元素加以纯化(99.999%),接着是
将些纯硅制成硅晶棒,成为制造集成电路的石英半导体的材料,将其切片就
是芯片制作具体需要的晶圆。晶圆越薄,成产的成本越低,但对工艺就要求
的越高。
2.晶圆涂膜晶圆涂膜能抵抗氧化以及耐温能力,其材料为光阻的一种,
3.晶圆光刻显影、蚀刻该过程使用了对紫外光敏感的化学物质,即遇紫
外光则变软。通过控制遮光物的位置可以得到芯片的外形。在硅晶片涂上光
致抗蚀剂,使得其遇紫外光就会溶解。这是可以用上第一份遮光物,使得紫
外光直射的部分被溶解,这溶解部分接着可用溶剂将其冲走。这样剩下的部
分就与遮光物的形状一样了,而这效果正是我们所要的。这样就得到我们所
需要的二氧化硅层。
4.搀加杂质将晶圆中植入离子,生成相应的 P、N 类半导体。具体工艺
是是从硅片上暴露的区域开始,放入化学离子混合液中。这一工艺将改变搀
杂区的导电方式,使每个晶体管可以通、断、或携带数据。简单的芯片可以
只用一层,但复杂的芯片通常有很多层,这时候将这一流程不断的重复,不
同层可通过开启窗口联接起来。这一点类似所层 PCB 板的制作制作原理。 更
为复杂的芯片可能需要多个二氧化硅层,这时候通过重复光刻以及上面流程
来实现,形成一个立体的结构。
5.晶圆测试经过上面的几道工艺之后,晶圆上就形成了一个个格状的晶
粒。通过针测的方式对每个晶粒进行电气特性检测。一般每个芯片的拥有
的晶粒数量是庞大的,组织一次针测试模式是非常复杂的过程,这要求了在
生产的时候尽量是同等芯片规格构造的型号的大批量的生产。数量越大相对
成本就会越低,这也是为什么主流芯片器件造价低的一个因素。
6.封装将制造完成晶圆固定,绑定引脚,按照需求去制作成各种不同的
封装形式,这就是同种芯片内核可以有不同的封装形式的原因。比如:DIP、
QFP、PLCC、QFN 等等。这里主要是由用户的应用习惯、应用环境、市场形
式等外围因素来决定的。
7.测试、包装经过上述工艺流程以后,芯片制作就已经全部完成了,这
一步骤是将芯片进行测试、剔除不良品,以及包装。