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QDR=Quick Dump Rinser，简称快排槽。使用DIW（去离子水）来对硅片进行冲洗。DIW的质量也是清洗洁净度的一个重要因素，这与当地环境有很大关系。具体的图纸见CU-6SA-10A。（吉川的图纸）

清洗的次数，由用户的经验来决定清洗几次排放。至于清洗几次比较满意，这要求设计人员在设计之初，就要进行试验，将试验的比较数据作为一个参考提供给用户，这样向用户推荐设备时，就比较有说服力。

电气上的配线注意那些问题？？

主要的问题还是防火防爆的问题。但是士兰的设备没有这方面的特殊的要求。

硫酸、DHF、BHF

温度的控制；

传感器要选择不会被酸气腐蚀，有护盖或者护罩的；

设备操作人员不能让酸雾侵蚀；

考虑操作方便性；

对接地的要求不高，主要是酸碱防燃防爆，普通接地就可以了；

机电接口处，线缆的选择都要注意耐酸雾，易被腐蚀或氧化；

用N2保护。不断的往电气柜中充入N2；

抛动电器中的问题：12槽的电机功率不一定非要大于2槽的制动机制，要视情况而定；

重量是最关键的参数：总片数+片盒+液体+机械摩擦等的力量；

气缸动作的控制：是否带刹车式机构，选型已定好，不用多考虑，开关信号较稳定。

石英槽是否有盖？

12槽中要用到一个盖子，使用石英材料的。因为硫酸、磷酸在140⁰C时，挥发性强，会对周围挡板有很大伤害。

为了防止空气中的污染物（包括沉淀、渣滓等附着物）污染快排槽的送水管道，也为了防止QDR槽中的硅片裸露在空气中的，就要求管子的水一直不停的流动，快排槽的喷头一直喷水。

另一个问题是，硅片清洗后有的还是脏的，有的已经清洗干净了，这样，如何保持均匀性的问题也是要考虑的一个因素。

这样，如果生产停止了一段时间，就有一个重新清洗管子的过程，以保证清洗溶液的洁净度。因为虽然DIW看起来是透明的，但是有可能已经达不到工业上要求的结晶程度了。这是要考虑是否要加过滤器。

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