这些小活动你都参加了吗?快来围观一下吧!>>
电子产品世界 » 论坛首页 » 综合技术 » 电源与模拟 » 光耦,磁隔,容隔特性的比较

共42条 1/5 1 2 3 4 5 ›| 跳转至

光耦,磁隔,容隔特性的比较

菜鸟
2021-04-25 18:34:44     打赏


                         光耦,磁隔,容隔的比较

光耦的特点:

光耦的优点:价格便宜,电磁干扰低

光耦的缺点:传输速率低,通常小于1Mbps

            功耗大;

            体积大,并且一颗芯片一个通道,集成度低;

            耐压特性不高;

            存在光衰问题,寿命差;

 

磁隔的特点:wafer后加工,成本高,周期长;

            Polyimide的耐压特性和寿命不如二氧化硅;

            天然存在电磁干扰的问题;

 

 

容隔的特点:标准CMOS工艺,成本低;

                  二氧化硅耐压特性好;

                  电磁兼容性能好;

对比.jpg





关键词: 光耦     磁隔     容隔     数字隔离器     川土微    

专家
2021-04-26 00:02:48     打赏
2楼

感谢楼主的分享,很实用了。


工程师
2021-04-26 00:11:27     打赏
3楼

感谢楼主的分享,很实用了。


专家
2021-04-26 06:55:02     打赏
4楼

感谢分享


专家
2021-04-26 07:03:55     打赏
5楼

谢谢


高工
2021-04-26 08:29:09     打赏
6楼

实用


专家
2021-04-26 08:44:05     打赏
7楼

学习


院士
2021-04-26 08:49:55     打赏
8楼

容隔用的比较少,学习了


专家
2021-04-26 08:53:17     打赏
9楼

谢谢分享


专家
2021-04-26 09:31:31     打赏
10楼

谢谢分享。


共42条 1/5 1 2 3 4 5 ›| 跳转至

回复

匿名不能发帖!请先 [ 登陆 注册 ]