网站首页
这些小活动你都参加了吗？快来围观一下吧！>>
电子产品世界 » 论坛首页 » 综合技术 » 测试测量 » JCMSuite应用—衰减相移掩模

共1条 1/1 1 跳转至页

JCMSuite应用—衰减相移掩模

cherryj
工程师
2023-08-11 09:05:45     打赏
在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示：

掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 

由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 相位分布如下图所示：

相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差：

回复
收藏
0

共1条 1/1 1 跳转至页

回复

匿名不能发帖！请先 [ 登陆 注册 ]