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SITIME晶振生产工艺流程图

助工
2017-04-06 15:11:23     打赏

SiTime晶振采用全硅的MEMS技术,由两个芯片堆栈起来,下方是CMOS PLL驱动芯片,上方则是MEMS谐振器,以标准QFN IC封装方式完成。封装完成之后,进行激光打标环节,黑色晶振表面一般打标都是B07CG,1-110MHZ任一频点均可编程,精确到小数点后六位;每个频点,均可提供7050、5032、3225、2520封装;未烧录之前,硅晶振属于空白片,用空白片进行烧录,根据客户的需要不同,烧录的程序参数也不同,再次强调一次,如果不小心烧录参数录入错误或者个别参数不同,相当于该硅晶振空白片就报废了。所以客户要求参数要仔细,工作人员也要反复核实,烧录分为人工烧录和机器烧录,国内人工烧录的很多,人工烧录比较麻烦,速度慢,易出错。而国内拥有SITIME晶振烧录机器的生产商就扬兴科技。


MEMS技术可将机械构件、光学系统、驱动部件、电控系统集成为一个整体单元的微型系统。这种微电子机械系统不仅能够采集、处理与发送信息或指令,还能够按照所获取的信息自主地或根据外部的指令采取行动。它用微电子技术和微加工技术(包括硅体微加工、硅表面微加工、LIGA和晶片键合等技术)相结合的制造工艺,制造出各种性能优异、价格低廉、微型化的传感器、执行器、驱动器和微系统。

sitime晶振生产流程图

SITIME MEMS硅晶振是由MEMS硅晶圆与CMOS晶圆上下叠加而成,而CMOS晶圆则包括了NON Memory、PLL 锁相环电路、起振电路与温补电路。


MEMS振荡器工艺流程图


上面六幅图揭示了整个SITIME晶振生产工艺流程,SITIME MEMS 硅晶振采用上下两个晶圆叠加的方式,外部用 IC 通用的塑料做为封装。不仅大大减少的石英晶振的工序,而且更全面提升了产品性能。




关键词: SITIME晶振生产工艺    

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